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Medidor de espesor de recubrimiento XRF ft160
Análisis rápido y preciso de los analizadores de rayos X de escritorio ft160 recubiertos a escala nanométrica diseñados para medir los componentes peq
Detalles del producto
Análisis rápido y preciso de recubrimientos a escala nanométrica
FT160Escritorioradiodifusión XRFEl analizador está diseñado para medir lo que es hoy en díaPCB, microchips en semiconductores y microchips. La capacidad de medir los componentes pequeños con precisión y rapidez ayuda a aumentar la productividad y evitar el costoso retrabajo o el desguace de los componentes.
FT160Los elementos ópticos de tubos finos peludos se pueden medir por menos de50 μmRecubrimientos a nanoescala en sus características, la tecnología avanzada de detectores le puede proporcionar alta precisión, manteniendo un tiempo de medición más corto. Otras funciones, como mesas de muestras grandes, escotillas de muestras anchas, cámaras de muestras de alta definición y ventanas de observación robustas, permiten cargar fácilmente objetos de diferentes tamaños y encontrar áreas de interés en grandes sustratos. El analizador es fácil de usar, con suQA / Control de calidadEl proceso está perfectamente integrado y le recuerda antes de la crisis del problema.
Puntos destacados del producto
FT160La tecnología óptica y detector está diseñada especialmente para el análisis de manchas de luz y recubrimientos ultrafinos, optimizando las características mínimas.
Gran ventana de observación para ver y analizar desde una distancia de Seguridad
El método de medición cumplenorma ISO 3497,norma ASTM B568yDIN 50987estándar
IPC-4552B,IPC-4553A,IPC-4554yIPC-4556Detección de recubrimiento consistente
Posicionamiento automático de características para la configuración rápida de la muestra
Opciones de configuración del analizador optimizadas para su aplicación
En menos de50 μmMedición del recubrimiento nanométrico en las características
Duplicar el flujo de análisis de los instrumentos tradicionales
Capacidad para grandes muestras de diversas formas
Diseño duradero dedicado a la producción a largo plazo
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FT160 |
FT160L |
FT160S |
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Rango de elementos |
Al-U |
Al-U |
Al-U |
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Detector |
Detector de deriva de silicio(SDD) |
Detector de deriva de silicio(SDD) |
Detector de deriva de silicio(SDD) |
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Xánodo del tubo de rayos |
El WOMo |
El WOMo |
El WOMo |
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Apertura |
Enfoque de tubos finos peludos |
Enfoque de tubos finos peludos |
Enfoque de tubos finos peludos |
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Tamaño del agujero |
30 μm @ 90%Intensidad..Mo tubo(...) |
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35 μm @ 90%Intensidad..Tubo W(...) |
30 μm @ 90%Intensidad..Mo tubo(...) |
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35 μm @ 90%Intensidad..Tubo W(...) |
30 μm @ 90%Intensidad..Mo tubo(...) |
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35 μm @ 90%Intensidad..Tubo W(...) |
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XYRecorrido de la Mesa de muestras del eje |
400 x 300 mm |
300 x 300 mm |
300 x 260 mm |
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Tamaño máximo de la muestra |
400 x 300 x 100 mm |
600 x 600 x 20 mm |
300 x 245 x 80 mm |
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Enfoque de la muestra |
Enfoque láser y enfoque automático |
Enfoque láser y enfoque automático |
Enfoque láser y enfoque automático |
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